科林研發揭示EUV微影的技術突破

-與 ASML 和 imec 合作開發的新型乾式光阻技術可擴展 EUV 微影的解析度、生產力和良率 新竹2020年3月2日 /美通社/ — 科林研發公司 (Lam Research Corp.) 今天發表了一種用於極紫外線 (EUV) 曝光的乾式光阻 (dry resist) 技術。透過結合科林研發在沉積和…